万字浅解国产EUV光刻机光学系统 长春光机所王大珩 4K(下架后重制版)

9009:
up重制都删改啥了，可以在评论区说一嘴吗？[doge]以文字形式应该没问题

【回复】回复 @intowindy :如果不是纯国产，那你更得把心放肚子里，西方已经一盘散沙，暗中通共了。本来以为要打辽沈啃锦州，结果直接快进到平津后期派代表来谈条件。[doge]
【回复】回复 @9009 :把华为EUV的专利部分删除了
【回复】回复 @intowindy :北京从不打没准备之仗，放心吧
雪泪寒10:
友情提示，这里是缓存区up主 缓存再看，养成习惯，以防万一

【回复】回复 @忿目金剛 :不能播的已经被下架和剔除了，剩余的现在才是能播的
【回复】回复 @2042的世界 :哪来的耗材言论
求其起个:
看了还是有一点意外的收获，充分了解了到达极微小制程时（3纳米、2纳米），实际上已经逼近物理极限，到了这个界面，实际上原子是在不停波动中的，而不是普通人认为的固体就是不动。我理解为：以后先进制程的CPU、GPU等运算单元就是一团不停蠕动的化学物，其中穿插着大量单原子链来通讯。物理、化学、电学……的最高技术集合体。

【回复】高精密设备需要稳定运行，你这个第一步就pass了
【回复】回复 @从傻小白到工业党 :哪里看的民科？[笑哭][笑哭][笑哭]
【回复】回复 @从傻小白到工业党 :真菌是微米级别，蛋白质都要几十个纳米。
吃蛋的怪蛋:
短期还是期待长春光机的方案吧，这是最靠谱的。前段时间炒的那个什么清华的，很多人都不知道那到时底是啥就跟风炒[辣眼睛]

【回复】回复 @YiShi一诗 :你好，我也是大陸北方的網友，對你同事的研究很感興趣[脱单doge]
【回复】本来这两年招生优势快没了，不炒点热的，怎么继续从大油库里骗油水[doge]
【回复】回复 @qsxwdcvfe :哈哈哈哈 大陆台积电北方分电啊[滑稽]
张张和小朋友:
up要么搜集资料的能力非常强悍，要么是业界相关从业人员，但是看up了解的各种信息都相当具有深度和广度，不得不佩服，另外一方面又联想到up发的这些信息，不知道从业界专业人士看涉不涉密，希望不要影响相关企业或我国芯片产业的发展，只希望up写文稿的时候自行斟酌，三联支持，up继续加油!

【回复】只是更专业点的硬核科普，具体参数和工艺一个没有，不可能泄密的[吃瓜]
【回复】华为出来的，创业遇到疫情洗刷刷了。
【回复】回复 @起个什么名字比较好点 :什么逃兵，人家又没有卖给华为，咋了还不允许出来创业了。
比利-海灵:
第一想到的就是伟人在《别了，司徒雷登》里的那句话：“封锁它十年、八年，中国的一切问题都解决了！”“中国人民有志气有能力，一定能在不远的将来赶上和超过世界先进水平！”[打call][打call][打call][打call]

【回复】回复 @我爱建模UG :咋了，看着难受？扫你的兴了？
bili_90529904293:
再提一个小建议，这个视频中用到了很多学术论文中的图片，非常好，能否在下方小字备注这是哪篇论文呢？这样也方便大家阅读原论文去学习

【回复】回复 @bili_90529904293 :好的！
小白三号机:
2017年前，长光所的EUV反射镜就已经达到＜0.1nm的精度了

【回复】回复 @Jackylumin :镀膜装置已经国产化了
【回复】有一段时间和德国合作，后来行不通了。
Karls:
科研还得是中科院！中科院每年在主要科学学科SCI论文发表基本上不是第一就是前三（世界排名）。应该挑大梁，也只有中科院可以挑大梁。

厄米佛陀:
想知道那个EUV反射镜能承受多大功率的EUV光照射，现在ASML最大250W，未来要是往kW级发展，还能hold住吗

【回复】回复 @厄米佛陀 :估计要想办法分散功率，单个光学系统受不了
【回复】回复 @落英行者roywalker :要是将来SSMB真有可能成，平均功率可能到10kW，难以想象这么高功率的光还有镜子受得了，分光都没法分吧
【回复】回复 @厄米佛陀 :EUV功率增大，反射镜也会同步增大，同时散热系统也必须升级
随心所欲八兆天空:
不知道能不能用显像管原理的电子枪轰击材料的方法刻蚀材料

【回复】回复 @随心所欲八兆天空 :那叫电子直接刻蚀芯片，不过有很多工程问题，效率很低。掩膜都是采用电子刻蚀来制作的。
【回复】那是离子直写光刻相当于刻刀。大众认知里的光刻机是把掩模图案成像到晶圆上。两者效率差距太大
【回复】回复 @落英行者roywalker :流水线生产只需要考虑一条线的问题，工件台则需要考虑二维平面和悬浮问题，里面速度加速度极难把握。我总体还是感觉流水线更好。
雪飘之夜:
看来SSMB如果能成功，真的是对锡离子激光的降维打击，高准直性——直接跳过复杂的漫反射收集镜和反射镜，高亮度——减少曝光时间，纯光子输入——无锡离子污染，无需掩膜保护层，无需清洗掩膜，高效率——重新发光只需要对电子补充损失的动能，而且目测更容易做大广场。只要SSMB成功了，可以直接跳过很多复杂的光学部件

【回复】那个别想了，不可能用来光刻的。 说白了，粒子加速到近光速，你觉得大部分能量是在接近光速的粒子上，还是粒子发出的电磁波上？ 之后且不论多少能量在电磁波上，光刻需要波段，又占全部发射电磁波的多少呢？ 这东西最后搞出来，效率低的可怕，搞科研还可以，真生产的话且不算设备成本，光是持续使用大型对撞机的能耗去做芯片，这个能源成本就注定完全没有竞争力。
【回复】回复 @雪飘之夜 :主要是不自信，咱们国家的科技大牛默默奋斗40年才追上世界顶尖科技，保密工作做的太好，以至于老百姓基本上心里都留下西方打的思想钢印，中国还是有距离，中国科技还是落后世界一流等等，其实只是了解的不够深入，不够全面，真要是哪天发现真相，绝对会成为狂热的中华民族主义者！因为中国人真的太强了！
【回复】回复 @御坂No10777号 :你自己去查一下SML的EUV光刻机的发光效率有多低再bb吧，而且ssmb不止能做光刻，也能做其他科研项目，同类型的中国已经运营3个了，要是像你说得这么一文不值，国家还在建这么多个，你比科学院的专家更懂？
琢石成器:
euv三大件之前都突破了，我们的科学家肯定不会闲着（别的国家不知道）…… 所以我想说的是，麒麟9000s，可能就是国产euv做的！

【回复】回复 @查干湖的胖头鱼啊 :国产28nmDUV还在调试，基本好了。
【回复】回复 @查干湖的胖头鱼啊 :魔改的尼康做的
【回复】国产浸润式duv光刻机做的
小花爱吃小鱼干儿:
有一说一，长春光机在半导体这块所确实牛批[点赞]

【回复】吉林一号卫星就是他们下属公司的