[EUVL Part4] EUV Mask
来去本无我:
我发布了一篇笔记,快来看看吧
EUVL Part4视频脚本总结:解决了EUV Mask黑边区域的反射问题,通过刻蚀多层结构抑制多次曝光挑战。掩模寿命问题源于氢气引起的起泡缺陷,需要生成...
https://www.bilibili.com/h5/note-app/view?cvid=33618892&pagefrom=comment
半导体 光刻机
来去本无我:
我发布了一篇笔记,快来看看吧
EUVL Part4视频脚本总结:解决了EUV Mask黑边区域的反射问题,通过刻蚀多层结构抑制多次曝光挑战。掩模寿命问题源于氢气引起的起泡缺陷,需要生成...
https://www.bilibili.com/h5/note-app/view?cvid=33618892&pagefrom=comment