台积电称无需ASML光刻机 即可制造下一代A16芯片

作者: 猎芯网分类: 计算机技术 发布时间: 2024-05-15 10:03:11 浏览:28030 次

台积电称无需ASML光刻机 即可制造下一代A16芯片

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台積電:A16用現有機器就能造 新聞學:台積電不需要ASML

【回复】回复 @不变的音乐101 :沒問題 藍白紅三色都有
【回复】回复 @不变的音乐101 :人家从几十年前一路备到现在了,旗子都褪色了,怎么还不用啊[笑哭]
风华正风:
人家说不用需要下一代euv,你这标题。。。不需要asml[doge],你让台积电把asml的euv都扔了试试?

【回复】还是个黄v 真的要笑死了
桜华月恋:
duv的极限,目前来看,等效5nm没问题,再往下未知,应该能冲击3nm

【回复】回复 @凤凰草原 :良品率不高,不然不至于一款芯片从旗舰阉割到2k价位
【回复】duv也能做到1nm,而且无需多重曝光,这个是华为公布的2022年的专利上说的
【回复】回复 @幻觉拼图 :ASML的人早就知道这个技术了,在中美关系还没有彻底破裂的时候,中芯国际对ASML展示了这项技术早期研发成果,震撼了ASML,远远超出了ASML的认知。但当时华为还在上升,以及当时的各家高层及美国政客郝还没有被犹太人完全控制,因此也没多少人封杀这玩意,等到巅峰华为被制裁的时候,封杀晚了,国内都有一大半的后期duv了[吃瓜]
ConstantGA:
不需要新机器=不需要asml 下一代a16工艺=苹果a16芯片 [喜欢]

李晓年同学:
这tm什么破标题,还以为台湾NB到可以不用阿斯麦光刻机了。[疑惑][疑惑]

wsq34:
真是一个啥人都可以科普知识,环境堪忧

小狗保帝:
fab里面asml的人跟蟑螂一样拿拖鞋都打不完。访客登记表里面整页的asml

過路客1968:
台積電是說不需要High NA EUV光刻機,也能造出下一代A16芯片

海路克星菲律宾破船:
会不会台积电2nm为了平稳过渡,挖掘现有工艺潜力,别说0.55 NA不急着上,连GAA都不用?

【回复】回复 @晴兒Qinger :会不会台积电跳过GAA,直接玩CFet?
【回复】再不用gaa,做换代升级,消费市场就快不认可了,看今年618吧,除了华子其他家库存挤压爆,消费下行外加中国消费者目光转移到其他消费领域,手机终端不保持更新速度就走pc行业老路。
冲塔哥布林:
说的是不用下一代,说白了下一代euv升级不明显

世上醉风真人:
看到不需要asml我直接进来了,还以为是国产euv开始出货了[笑哭]

【回复】自己都不够用,还出货?
benjee:
2nm 的下个节点是a14 .a16是2nm的改进版,当然不需要换光刻机。

joe1980:
理解能力堪忧,‘不需要用到下一代euv’的重点是‘下一代’

凤凰草原:
华为的专利说了可以用duv光刻机可以做到1纳米,不用euv光刻机

【回复】回复 @凤凰草原 : 我原以为你是反串的,没成想你是来真的?实验室或者说论文与工程实践差了十万八千里,工程实践与量产又差了十万八千里,英特尔、三星都比台积电财大气粗、光刻机等各种设备想买就买、工程化能力三者应该差不多,为啥最终量产台积电吃肉、三星吃骨头、其余只能喝汤呢?多去了解下什么套刻精度,目前来看ArFi通过6重曝光做5nm,应该具有可行性,但是不可能无限多重曝光的
【回复】回复 @海路克星菲律宾破船 :真是没啥文化,华为肯定可以。宇宙都是华为造的
【回复】什么叫1nm?不用EUV是不可能的,多重曝光也不行,因为套刻精度摆在那里

技术 电子 芯片 台积电 光刻机

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